Plasma

Plasma on elektrostaatilises või elektromagnetväljas tekkiv positiivsete ja negatiivsete ioonide ning elektronide segu. Ioonid või laenguga molekulid (ergastatud radikaalid) eemaldavad saastet füüsikaliselt (atomiseerimine) või keemilise reaktsiooni tulemusena. Viimasel juhul lagundab plasma saasteaine molekuli veeauruks, süsinikdioksiidiks ja väikese molekulmassiga lenduvateks orgaanilisteks ühenditeks. Need viiakse reaktsioonitsoonist välja. Valdav osa plasmapuhastust toimub vaakumkambris argooni või hapniku plasmaga.

Plasma on väga efektiivne väga õhukeste orgaaniliste kihtide eemaldamiseks. Plasmapuhastust kasutatakse laialdaselt pooljuhtide tööstuses. Sageli parandab see juhtmete kinnitust hübriid-mikroskeemidel. Plasmapuhastusega saab eemaldada juhtmete isolatsioonikihti mähistelt ja magnetagregaatidelt. Seda kasutatakse ka galvaanilisel katmisel plastikpindade ettevalmistamisel.

Plasma sobib kõige paremini täpsuspuhastamiseks. Uuritakse atmosfääriõhu plasmade kasutamise arenguvõimalusi, mis võib laiendada tulevikus selle tehnika kasutusala.

	Prevention, SDS, column-model, etc.
	Producers, suppliers
	Optimisation potential
	References

back	List of all database-processes with this method	forward